宇之光光繪機銷售.高精度激光光繪機

    宇之光光繪機.深圳市好創好科技有限公司供應.宇之光激光光繪機是用激光對菲林進行掃描產生圖形的，其原理正如電視機顯像管中電子槍掃描屏幕上的熒光物質一樣。首先，將印制電路板的圖面映像到一個大存儲陣列中，然后使激光束按照存儲陣列中相應單元的值被打開或關閉(調制)，從而得到所需要的工藝菲林。激光光繪機采用激光做光源，有容易聚焦、能量集中等優點，對瞬間快速的底片曝光非常有利，繪制的底片邊緣整齊、反差大、不虛光。曝光采用掃描式，無論密度多大，均能在最短時間內完成曝光，繪制一張底片只需幾分鐘。因此成為當今光繪行業的主流。 　　激光光繪機的光源多采用氣體激光器，如氬、氦和氖等。氣體激光器的光源強度大但壽命卻有限，約6000～10000h，因此使用一年多就需要更換光源。現在一些光繪機生產廠家采用了半導體激光器作為光源，但較大功率的半導體激光器的生產還不很成熟。
由CAD產生的設計數據轉換成光繪數據(多為Gerbei數據)經CAM系統進行處理，完成光繪預處理(拼版、鏡像等)。將處理完的數據送入光繪機，由光繪機的光柵(Raster)數據處理器轉換成光柵數據，此光柵數據直接驅動激光光繪機，完成光繪。 詳情請了解.