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CTP優特技術及熱敏成像與光敏成像在曝光、功率、質量、版材上的差異

放大字體??縮小字體 發布日期:2016-06-18??來源:互聯網??作者:紙引未來
核心提示:

一、成像曝光

1熱敏CTP成像曝光:屬物理反應取決于光子的熱效應,也取決于光子的數量與密度。

2光敏CTP成像曝光:屬化學反應取決于光子能量發生聚合、分解、交聯的量子反應。

 

二、成像功率

1熱敏CTP成像功率:寬容可見光和近紫外光譜,普通情況下出現曝光不足或曝光過度的可能性很少。

2光敏CTP成像功率:只在FD-YAG;功率在(10~1W/C㎡)量級,在UV-LD;功率在(10~2W/C㎡)量級。

 

三、成像質量

1熱敏CTP成像質量:邊緣銳利清晰,容易達到水墨平衡,網點好控制在1%~99%,成像還原200線/英寸

2光敏CTP成像質量:會因環境問明而經常影響成像質量,極易出現曝光不徹底、網點暈光等不良現……

 

四、成像版材

1熱敏CTP成像版材:廣而豐富,熱交聯型、熱熔型、熱燒蝕型、相變化型等多種類型都適合。

2光敏CTP成像版材:受成像機理限制只能用銀鹽材料和光聚合型材料的兩種類型的版材。

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